海思饮水净化除硼阴树脂D870

海思牌D870产品介绍

1、化学结构与原理 树脂类型：大孔螯合型阴离子交换树脂，骨架为苯乙烯 - 二乙烯苯共聚体，表面带有N - 甲基葡糖胺基（N-glucamine）功能基团。

作用机制：通过络合反应选择性吸附硼酸或硼酸盐。N - 甲基葡糖胺基团与硼酸形成稳定的五元环配合物，而对其他阴离子（如 Cl⁻、SO₄²⁻等）呈惰性，实现高效除硼。

吸附特性：在 pH≤10 的条件下，硼酸以分子态（H₃BO₃）存在，树脂通过配位作用直接捕获硼分子，不受水中钙、钠、氯离子干扰。
 

2、性能

吸附容量：硼酸吸附容量≥30.0 g/L-R（进水浓度越高，容量越大）。

处理精度：出水硼浓度可降至 1 mg/L 以下（饮用水标准），甚至 ng/L 级（半导体超纯水需求）。

再生性：使用 1N H₂SO₄溶液洗脱，再生效率高，树脂寿命长（约 3-5 年）。

稳定性：大孔结构抗有机物污染，耐温≤80℃，适用于复杂水质。

二、技术参数

指标名称 参数值

外观 米白色不透明球状颗粒

骨架 苯乙烯系

出厂型式 自由羟基型

活性基团 N - 甲基葡糖胺

含水量 45%-55%

湿视密度 0.75-0.85 g/mL

湿真密度 1.15-1.25 g/mL

粒度范围（0.315-1.25mm） ≥95%

有效粒径 ≥0.400 mm

均一系数 ≤1.60

磨后圆球率 ≥90%

三、应用领域

1、饮用水与地下水处理

场景：去除水中硼酸盐，满足欧盟（≤1 mg/L）、WHO 等标准。

案例：某水厂原水硼含量超标（2 mg/L），经 D870 处理后稳定达标。

2、工业超纯水制备

半导体行业：去除高纯度水中的痕量硼（降至 ppt 级），满足芯片制造工艺需求。

光伏行业：净化硅料生产用水，避免硼污染影响产品性能。

3、盐湖卤水提锂

场景：从卤水中选择性除硼，保障后续提锂效率（如氯化镁卤水中硼从 100 mg/L 降至 10 mg/L 以下）。

优势：在高镁锂比（如 200:1）条件下仍保持高选择性，减少锂资源损失。

4、特殊行业应用

医药 / 食品：去除溶液中的硼杂质，提升产品纯度。

陶瓷 / 搪瓷：净化含硼废液，减少环境污染。

农业灌溉：控制水中硼浓度（≤1 mg/L），避免作物硼中毒。

四、再生方法

再生剂：1N H₂SO₄溶液（洗脱硼），1N NaOH 溶液（中和转型）。

操作步骤：

反洗：清水以 2.0-4.0 BV/h 流速冲洗，去除悬浮物（1.0-2.0 BV）。

洗脱：H₂SO₄溶液以 1.0-1.5 BV/h 流速通过树脂床（1.5-2.0 BV）。

慢洗：清水置换残留酸液（1.0-1.5 BV）。

中和：NaOH 溶液转型（1.5-2.0 BV），慢洗至中性。

快洗：清水淋洗至出水硼浓度达标（2.0-4.0 BV）。

五、技术优势

高选择性：对硼酸的吸附能力远超传统树脂，抗其他离子干扰。

高效脱硼：单级处理即可满足严格硼含量要求。

环保经济：再生废液可回收利用，降低运行成本。

适应性广：适用于 pH≤10、硼浓度波动大的水体。

海思牌D870 树脂凭借其独特的络合机理和稳定性能，成为饮用水安全、新能源材料（如锂电池）及工业高纯水领域的核心除硼解决方案。